一、申請內(nèi)容
1.多項目晶圓直接流片資助；
2.首次完成全掩膜工程產(chǎn)品流片資助。
二、資助標準
1.對于使用多項目晶圓進行研發(fā)的企業(yè)，給予2021年多項目晶圓直接流片費用最高70%、年度總額不超過300萬元的資助；
2.對于首次完成全掩膜工程產(chǎn)品流片的企業(yè)，給予2021年首次完成全掩膜工程產(chǎn)品流片費用最高50%、年度總額不超過500萬元的資助。
三、申請條件
（一）基本條件：
1.申請單位應當是在深圳市（含深汕特別合作區(qū)，下同）依法注冊，具備法人資格的企業(yè)；
2.申請單位應在深圳具備研發(fā)的場地、設施、人員等；
3.申請單位未被列入深圳市科研誠信異常名錄和超期未申請驗收名單；
4.項目申請單位不存在未在規(guī)定期限內(nèi)退回財政資金的情形；
5.申請單位同一項目不得向市有關部門進行多頭申請和重復申請；
（二）專項條件：
（1）申請單位應為集成電路設計企業(yè)；
（2）申請單位應為流片產(chǎn)品的知識產(chǎn)權所有方；
（3）項目未申請市發(fā)展改革委集成電路設計流片扶持計劃。
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